日本表面科学会関西支部 主催
第４回実用表面分析セミナー
協賛 日本化学会、日本物理学会、応用物理学会、日本分光学会、日本金属学会関西
（交渉中 支部、日本セラミックス協会、日本分析化学会、表面技術協会、日本材料学会、
を含む） 高分子学会、日本材料科学会、日本質量分析学会、電気化学会、軽金属学会、
日本真空協会、触媒学会、化学工学会、日本鉄鋼協会、ｾﾝｼﾝｸﾞ技術応用研究会
日本表面科学会では、表面や界面の問題にこれから取り組もうとされている比較的初心者の方を対象に、毎年、表面科学基礎講座を東京と大阪で開催しており、今秋の大阪開催で既に第３２回を数えます。一方、表面分析などの実務者やより進んだ表面分析を模索しておられる方を対象として、３年前から秋の基礎講座開催時（基礎講座の翌日）に、本実用表面分析セミナーを開催してきております。表面分析の解析技術の向上に役立つ内容や最新の分析技術の紹介、更には、各種材料を分析する場合に特有のノウハウやヒントになる内容をたくさん盛り込んでおります。最近注目されている、High-k膜や極薄膜の分析に適した手法についても多く紹介されます。今回も分析機器メーカーと分析センターの協力を得て、口頭発表とポスター展示を併設して、表面分析の応用面における情報交換の場を提供するために企画しました。多数の皆様の参加をお持ちしております。
１．開催日時；2001年11月9日（金）【表面科学基礎講座の翌日】
２．場所 ；独立行政法人産業技術総合研究所関西センター（大阪府池田市）
（旧大阪工業技術研究所） 融合棟多目的ホール
３．プログラム
10:00～10:15 傾斜ｴｯﾁﾝｸﾞによるSiO2膜及びSiO2/Si界面の評価 （東レﾘｻｰﾁｾﾝﾀｰ）村司雄一
10:15～10:30 高分解能RBSによる極薄ｹﾞｰﾄ絶縁膜の評価 （ｺﾍﾞﾙｺ科研）藤川和久・笹川薫
10:30～10:45 Ｘ線反射率装置による薄膜の評価 （理学電機）表 和彦
10:45～11:00 XRFによるSiウェーハ上BST薄膜の膜厚・組成評価（理学電機工業）藤村聖史
（休憩）
11:15～11:30 有機多層薄膜の分析 (UBE科学分析センター)宗山悦博
11:30～11:45 イオン注入試験片の組成分析と結晶性評価（イオン工学センター）関根幸平
11:45～12:00 UHR-FE-SEMを用いた表面及び界面の観察 （日東分析センター）高濱 洋
（昼食）
13:00～13:15 三次元表面形状計測について （日製サイエンス）元川雄司
13:15～13:30 走査型プローブ顕微鏡によるポリマーの粘弾性観察（島津製作所）松田政夫
13:30～13:45 表面分析とＴＤＳ （電子科学）佐野真紀子
13:45～14:00 ＡＥＳとＥＢＳＤの組み合わせについて （日本電子）工藤政都
（休憩）
14:15～14:30 ＥＳＣＡによるナノメートルレベルの極薄膜分析 （ｱﾙﾊﾞｯｸ・ﾌｧｲ）大岩 烈
14:30～14:45 μ-XPSによるﾃﾞﾌﾟｽﾌﾟﾛﾌｧｲﾘﾝｸﾞ・ｲﾒｰｼﾞﾝｸﾞ（ｶﾈｶﾃｸﾉﾘｻｰﾁ）岩田谷正純・深田昇
14:45～15:00 Surface-SIMSの応用と他の表面分析手法との定量的比較（ﾅﾉｻｲｴﾝｽ）新宮一恵
（休憩）
15:15～16:30 ポスターセッション
上記口頭発表に関連したポスター１４点及び下記２点の計１６点
「微小部結晶方位マップ測定装置：ＥＢＳＤの紹介」 （堀場製作所） 中田 靖
「電子線による表面形状測定」 （エリオニクス）植松卓彦
４．参加費用
日本表面科学会員：2,000円、協賛学会員：3,000円、その他一般：4,000円、
学生：無料（但し、資料代1,000円）
５．申し込み方法
１１月２日（金）までにあらかじめ参加登録をして下さい。電子メール、ＦＡＸ、
官製ハガキをご利用いただき、下記項目を記載の上、申し込み下さい。なお、当日
参加も歓迎致しますが、資料準備の都合上なるべく事前にご連絡いただきますよう
宜しくお願い致します。
①第４回実用表面分析セミナー参加費（申し込み区分を明記下さい）
②氏名
③勤務先・所属（または大学名・学科）
④住所・ＴＥＬ・ＦＡＸ・メールアドレス
６．申し込み先
〒520-8567滋賀県大津市園山３－３－７
㈱東レリサーチセンター 奥野和彦
E-mail:Kazuhiko_Okuno@trc.toray.co.jp
FAX:077-537-5221,TEL:077-533-8611,-8612
７．会場案内
阪急梅田より宝塚線急行20分、池田駅下車徒歩10分