平成21年度
九州表面・真空研究会 2009
(兼第14回九州薄膜表面研究会)

主催:応用物理学会九州支部 日本真空協会関西支部 日本表面科学会関西支部

・テーマ: 新奇な薄膜・表面現象とその応用の最前線

・開催日時: 2009年6月13日(土) 9:00-18:00

・場 所: 九州工業大学戸畑キャンパス 総合研究棟2階 大学院講義室

    (北九州市戸畑区仙水町1-1:JR鹿児島本線九州工大前駅下車徒歩15分)
・特別講演

中山喜萬先生(大阪大学大学院) 「カーボンナノチューブのナノ加工とデバイス展開」

安江常夫先生(大阪電気通信大学) 「LEEM/PEEMによる表面動的過程の観察」

・一般講演募集について
  一般講演を、表面・真空・薄膜及びその周辺の分野から広く募集いたしますので、
  九州のみならず全国からの活発なご投稿をお願いいたします。
          
プログラム(準備中)

アクセスマップのページへ (http://www.kyutech.ac.jp/top/tobata/access_map/index.html)


・講演申込締切: 2009年5月15日 (金)

・予稿原稿締切: 2009年5月29日 (金)


・参加費: 無料。


・講演申込方法
  締切期日までに以下の事項を明記して下記メール送付先にお送りください。
   題目、著者名(登壇者氏名の前に○印)、勤務先(略称)、キーワード(5〜8個)
・予稿原稿の書き方
  以下の説明を参考にして作成してください。完成した予稿原稿はPDF形式のファイル
  に変換して下記メール送付先にE-mail添付にてお送りください。

     サイズ:A4判(縦)1枚、横書き。

     余白:上22mm、下25mm、左右20mm程度の余白を確保。

     題目:第1行中央に16ポイント程度のフォントで作成。

     著者名:題目の下の中央部分に11ポイント程度のフォントで作成。登壇者氏名
          の左肩に○印をつける。連名者の勤務先が異なる場合は、著者名、
           勤務先ともに右肩に上付英字A,B,Cを使用して区別する。

     勤務先:著者名の下の中央部分に11ポイント程度のフォントで作成。

     本文:1ページの行数を40〜45行程度とし、10ポイント程度のフォントを使用。
         段組は1段組でも2段組でもかまいません。2段組の場合は中央に8mm
         程度の余白を設定

・講演について
  発表はパソコン接続のプロジェクターで行います。ご自身のパソコンを持参頂くか、
  こちらで用意したパソコン(WindowsXP、PowerPoint2007)にUSBメモリー等からファイ
  ルをコピーしてご使用ください。

・研究会終了後交流会を予定しています。

・車での入校可能です。西門から入り、守衛さんの指示に 従ってください。

・運営:水野清義 (九州大学大学院)
     内藤正路 (九州工業大学大学院)

・問合せ・メール送付先
    内藤正路(九州工業大学大学院工学研究院電気電子工学研究系)
    TEL:093-884-3266  FAX:093-884-3203
    E-mail:naitoh@elcs.kyutech.ac.jp