月　日	講　義　題　目	講　師
１日目	表面・界面分析概論・電子プローブX線マイクロアナライザと走査電顕（EPMA/SEM-EDX）	副島　啓義（島津総研）
	赤外・ラマン分光（実例を中心として）	村木　直樹（東レリサーチ）
	超高真空装置とナノ分析(AES/PEEM/XPS)	大岩　烈（オミクロンナノテクノロジー）
	シンクロトロン放射光と表面電子状態	寺岡有殿（原子力機構/SPring-8）
	逆空間，薄膜表面X線回折と表面電子線回折，X線反射率	藤居　義和（神戸大）
２日目	イオン散乱の物理と基礎	梅澤　憲司（大阪府大）
	二次イオン質量分析法	加連　明也（東レリサーチ）
	透過電子顕微鏡(TEM/AEM)	保田　英洋（神戸大）
	収束イオンビーム・半導体接合界面(FIB)	尾張　真則（東大）
	高分解能ラザフォード後方散乱（HRBS）	笹川　薫　（コベルコ科研）
	走査プローブ顕微鏡の基礎と表面原子操作の最先端	森田　清三（大阪大）

質問と回答はこちら、複数の先生からの回答もあり、おおまかに講義順に分けられています。