日本表面科学会 会員の皆様
日本表面科学会 主催
第28回表面科学セミナー「精密薄膜構造解析の最前線」
本セミナーは薄膜基礎講座のアドバンスドコースとして位置づけ、
研究開発や品質管理に用いられている主要な薄膜構造解析手法
について、種々の材料への応用を例にして、得られる情報から
精度や適用可能範囲、更に分析上の留意点等詳細な解説を
行います。
薄膜・多層膜材料の研究開発に携わっている研究者・技術者の
方々、薄膜・多層膜材料を利用している方々のみならず、各分析
手法を利用されている方々にも有益な企画といたしましたので、
皆様のご参加をお待ちしています。
開催に当たり、貴職場および関係の方々やお知り合いの方々に
本セミナーへの参加をご勧誘いただきたく、何卒よろしくお願い
申し上げます。
＊申し込み締切りは延長して10月5日（金）まで受付けます。
第28回表面科学セミナー参加申込ホームページ
http://www.sssj.org/Seminar_28.html
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プログラム
10月10日（水）
9:30-10:30 総論： 計測・分析技術に求めるもの−半導体産業の視点から−
池野昌彦（日立ハイテクノロジーズ）
10:30-11:30 SIMSによる極浅注入不純物測定 富田充裕（東芝）
11:40-12:10 最新機器を用いた分析事例1
神戸製鋼所
13:10-14:10 HRBSによる半導体プロセスにおける極薄膜評価
中嶋薫（京大）
14:10-15:10 AESを用いた薄膜構造評価
眞田則明(アルバック・ファイ)
15:20-16:20 XPSによる半導体プロセス・材料の評価
中村 誠（富士通研）
16:20-16:50 最新機器を用いた分析事例2
サーモフィッシャーサイエンティフィック(株)
10月11日（木）
9:30-10:30 レーザ補助広角３次元アトムプローブによるナノ解
宝野和博（物材機構）
10:30-11:00 最新機器を用いた分析事例3 日立ハイテクノロジーズ
11:10-12:10 半導体プロセス評価を中心としたSEM計測技
中山義則（日立中研）
13:10-14:10 X線反射率による半導体プロセスにおける薄膜測定
表 和彦（リガク）
14:10-14:40 最新機器を用いた分析事例4
日本電子株式会社
14:50-15:50 分光エリプソメトリーによる半導体材料の構造解析
藤原裕之（産総研）
15:50-16:50 透過電子顕微鏡法を用いた微細構造解析 木本浩司（物材機構）
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日本表面科学会
上村恵美子
〒113-0033
文京区本郷2-40-13本郷コーポレイション402
TEL:03-3812-0266
FAX:03-3812-2897
E-mail:shomu@sssj.org
URL:http://www.sssj.org
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