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第30回表面科学基礎講座 2000年11月15日〜16日 会 場：(株)島津製作所関西支社 マルチホール
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| 11月15日 (水) | 表面・界面概論 | 福田 安生(静大電子研) |
| FT-IR、ラマン分光 | 石田 英之(東レリサーチセンター) | |
| 二次イオン質量分析法（SIMS） | 工藤 正博(成蹊大工) | |
| 走査プローブ顕微鏡（STM/AFM） | 森田 清三(阪大工) | |
| 電子線マイクロアナライザ（EPMA） | 平居 暉士(島津製作所) | |
| 討論 | 福田、石田、工藤、森田、平居 | |
| 11月16日 (木) | 電子分光装置の基礎 | 大岩 烈(アルバック・ファイ) |
| オージェ電子分光法（AES） | 笹川 薫(コベルコ科研) | |
| X線光電子分光法（XPS） | 深田 昇(カネカテクノリサーチ) | |
| イオン散乱法（ISS/MEIS/RBS） | 城戸 義明(立命館大工) | |
| 電子顕微鏡（TEM） | 遠藤 久満(京工繊大工芸) | |
| 討論 | 大岩、笹川、深田、城戸、遠藤 |
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| ６月２８日（水） | 表面・界面分析概論 | 一村 信吾（電総研） |
| 走査プロ−ブ顕微鏡(SＰM）の基礎 | 野副 尚一（物質研） | |
| 走査プロ−ブ顕微鏡(SＰM）の応用 | 藤井 政俊（都立大理） | |
| 透過電子顕微鏡（ＴＥＭ／ＡＥＭ） | 板東 義雄（無機材研） | |
| 走査電子顕微鏡、電子プローブマイクロアナライザ(ＳＥＭ／EPMA） | 林 広司（島津製作所） | |
| 総 合 討 論 | 各 講 師 | |
| ６月２９日（木） | 赤外分光法、ラマン分光法 | 北島 正弘（金材技研） |
| 電子線回折法(LEED、RHEED） | 堀尾 吉巳（大同工大） | |
| X線構造解析(XRD,XAFS） | 水木純一郎（原研） | |
| イオン散乱分光法 | 越川 孝範（大阪電通大） | |
| 総 合 討 論 | 各 講 師 | |
| ６月３０日（金） | 表面分析装置の基礎 | 堤 悠治（日本電子） |
| オ−ジェ電子分光法(AES） | 大岩 烈（アルバック・ファイ） | |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 田沼 繁夫（ジャパンエナジ−） | |
| 二次イオン質量分析法(SIMS） | 工藤 正博（成蹊大工） | |
| 総合討論／まとめ | 各 講 師 |
| 月 日 |
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表面・界面分析概論 | 福田 安生 （静大電子研） |
| ＦＴ−ＩＲ，ラマン分光 | 石田 英之 （東レリサーチセンター） | |
| 電子顕微鏡（TEM） | 遠藤 久満 （京工繊大工芸） | |
| 走査プローブ顕微鏡（STM/AFM） | 森田 清三 （阪大工 ） | |
| 電子線マイクロアナライザ（EPMA） | 平居 暉士 （島津） | |
| 討論 | 福田、石田、遠藤、森田、平居 | |
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電子分光装置の基礎 | 大岩 烈 （アルバック・ファイ） |
| オージェ電子分光法（AES） | 笹川 薫 （コベルコ科研） | |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 深田 昇 （カネカテクノリサーチ） | |
| イオン散乱法（ISS/MEIS/RBS） | 城戸 義明 （立命館大理工） | |
| 二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ） | 工藤 正博 （成蹊大工） | |
| 討論 | 大岩、笹川、深田、城戸、工藤 |
| 月日 | 講義題目 | 講師 |
| ６月３０日（水） |
表面・界面分析概論 |
福田安生（静大電子研） |
電子線回折(LEED、RHEED） |
一宮彪彦（名大工） |
|
| X線構造解析(XRD,XAFS） | 水木純一郎（原研） | |
| 電子顕微鏡による構造解析 | 板東義雄（無機材研） | |
| 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 奥村豊彦（日本電子） | |
| 電子顕微鏡による微小部分析 | 永田文男（日立サイエンス） | |
| ７月１日（木） | 走査プロ−ブ顕微鏡(SYM,AFM） | 野副尚一（物質研） |
| 赤外分光(FT-IR）、ラマン分光 | 石田英之（東レリサ−チセンタ） | |
| イオン散乱 | 越川孝範（大阪電通大） | |
| 電子分光装置の基礎 | 大岩烈（アルバック・ファイ） | |
| 測定デ−タの取扱い | 太田英二（慶応大理工） | |
| ７月２日（金） | オ−ジェ電子分光法(AES） | 吉原一紘（金材技研） |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 田沼繁夫（ジャパンエナジ−） | |
| 二次イオン質量分析法(D-SIMS） | 本間芳和（ＮＴＴ） | |
| 二次イオン質量分析法(D-SIMS） | 工藤正博（成蹊大工） | |
| 総合討論／まとめ | 講師全員 |
| 月 日 |
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表面・界面分析概論 | 福田 安生 （静大電子研） |
| ＦＴ−ＩＲ，ラマン分光 | 石田 英之 （東レリサーチセンター） | |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 深田 昇 （カネカテクノリサーチ） | |
| 電子顕微鏡（TEM） | 遠藤 久満（京工繊大工芸） | |
| 電子線マイクロアナライザ（EPMA） | 平居 暉士 （島津） | |
| 討論 | 福田、石田、深田、遠藤、平居 | |
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電子分光装置の基礎 | 大岩 烈 （アルバック・ファイ） |
| 走査プローブ顕微鏡（STM/AFM） | 森田 清三 （阪大工 ） | |
| オージェ電子分光法（AES） | 笹川 薫 （コベルコ科研） | |
| イオン散乱法（ISS/MEIS/RBS） | 城戸 義明 （立命館大理工） | |
| 二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ） | 工藤 正博 （成蹊大工） | |
| 討論 | 大岩、森田、笹川、城戸、工藤 |
| 月日 | 講義題目 | 講師 |
| ６月２４日（水） | 表面・界面分析概論 | 福田安生（静大電子研） |
| 電子線回折(LEED、RHEED） | 一宮彪彦（名大工） | |
| X線構造解析(XRD,XAFS） | 水木純一郎（原研） | |
| 電子顕微鏡による構造解析 | 板東義雄（無機材研） | |
| 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 奥村豊彦（日本電子） | |
| 電子顕微鏡による微小部分析 | 永田文男（日立計測） | |
| ６月２５日（木） | 走査プロ−ブ顕微鏡(SYM,AFM） | 野副尚一（物質研） |
| 赤外分光(FT-IR）、ラマン分光 | 石田英之（東レリサ−チセンタ） | |
| イオン散乱 | 越川孝範（大阪電通大） | |
| 電子分光装置の基礎 | 大岩烈（アルバック・ファイ） | |
| 測定デ−タの取扱い | 太田英二（慶応大理工） | |
| ６月２６日（金） | オ−ジェ電子分光法(AES） | 吉原一紘（金材技研） |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 田沼繁夫（ジャパンエナジ−） | |
| 二次イオン質量分析法(D-SIMS） | 本間芳和（ＮＴＴ） | |
| 二次イオン質量分析法(D-SIMS） | 工藤正博（成蹊大工） | |
| 総合討論／まとめ | 講師全員 |
| 月 日 |
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表面・界面分析概論 | 福田 安生 （静大電子研） |
| 赤外分光(ＦＴ−ＩＲ)，ラマン分光 | 梅村 純三（京大化研） | |
| 電子顕微鏡（TEM） | 遠藤 久満（京工繊大工芸） | |
| 走査プローブ顕微鏡（STM/AFM） | 森田 清三 （阪大工 ） | |
| 電子線マイクロアナライザ（EPMA） | 平居 暉士 （島津） | |
| 討論 | 福田、梅村、森田、遠藤、平居 | |
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電子分光装置の基礎 | 大岩 烈 （アルバック・ファイ） |
| オージェ電子分光法（AES） | 大村 卓一（松下テクノリサーチ） | |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 深田 昇 （カネカテクノリサーチ） | |
| イオン散乱法（ISS/MEIS/RBS） | 城戸 義明 （立命館大理工） | |
| 二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ） | 工藤 正博 （成蹊大工） | |
| 討論 | 大岩、大村、深田、城戸、工藤 |
| 月日 | 講義題目 | 講師 |
| ６月１１日（水） | 表面・界面分析概論 | 福田安生（静大電子研） |
| 電子線回折(LEED、RHEED） | 一宮彪彦（名大工） | |
| 電子顕微鏡による構造解析 | 板東義雄（無機材研） | |
| 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 奥村豊彦（日本電子） | |
| 電子顕微鏡による微小部分析 | 永田文男（日立計測） | |
| ６月１２日（木） | 走査プロ−ブ顕微鏡(SYM,AFM） | 野副尚一（物質研） |
| 赤外分光(FT-IR）、ラマン分光 | 石田英之（東レリサ−チセンタ） | |
| イオン散乱 | 越川孝範（大阪電通大） | |
| 電子分光装置の基礎 | 大岩烈（アルバック・ファイ） | |
| 測定デ−タの取扱い | 太田英二（慶応大理工） | |
| ６月１３日（金） | オ−ジェ電子分光法(AES） | 吉原一紘（金材技研） |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 田沼繁夫（ジャパンエナジ−） | |
| 二次イオン質量分析法(D-SIMS） | 本間芳和（ＮＴＴ） | |
| 二次イオン質量分析法(D-SIMS） | 工藤正博（成蹊大工） | |
| 総合討論／まとめ | 講師全員 |
| 月 日 |
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表面・界面分析概論 | 福田 安生 （静大電子研） |
| 赤外分光(ＦＴ−ＩＲ)，ラマン分光 | 石田 英之（東レリサーチセンター） | |
| 電子顕微鏡（TEM） | 柴富 邦夫（日本電子） | |
| 走査プローブ顕微鏡（STM/AFM） | 森田 清三 （阪大工 ） | |
| 電子線マイクロアナライザ（EPMA） | 平居 暉士 （島津） | |
| 討論 | 福田、石田、柴富、森田、平居 | |
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|
電子分光装置の基礎 | 大岩 烈 （アルバック・ファイ） |
| オージェ電子分光法（AES） | 大村 卓一（松下テクノリサーチ） | |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 深田 昇 （カネカテクノリサーチ） | |
| イオン散乱法（ISS/MEIS/RBS） | 吉岡 芳明 （松下テクノリサーチ） | |
| 二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ） | 工藤 正博 （成蹊大工） | |
| 討論 | 大岩、大村、深田、吉岡、工藤 |
| 月日 | 講義題目 | 講師 |
| ６月１２日（水） | 表面・界面分析概論 | 福田安生（静大電子研） |
| 電子線回折(LEED、RHEED） | 一宮彪彦（名大工） | |
| 電子顕微鏡による構造解析 | 板東義雄（無機材研） | |
| 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 奥村豊彦（日本電子） | |
| 電子顕微鏡による微小部分析 | 永田文男（日立計測） | |
| ６月１３日（木） | 走査プロ−ブ顕微鏡(SYM,AFM） | 野副尚一（物質研） |
| 赤外分光(FT-IR）、ラマン分光 | 石田英之（東レリサ−チセンタ） | |
| ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ） | 吉岡芳明（松下テクノリサーチ） | |
| 電子分光装置の基礎 | 大岩烈（アルバック・ファイ） | |
| 測定デ−タの取扱い | 太田英二（慶応大理工） | |
| ６月１４日（金） | オ−ジェ電子分光法(AES） | 吉原一紘（金材技研） |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 田沼繁夫（ジャパンエナジ−） | |
| 二次イオン質量分析法(D-SIMS） | 本間芳和（Ｎ Ｔ Ｔ） | |
| 二次イオン質量分析法(Ｓ-SIMS） | 工藤正博（成蹊大工） | |
| 総合討論／まとめ | 講師全員 |
| 月 日 |
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表面・界面分析概論 | 福田 安生 （静大電子研） |
| 赤外分光(ＦＴ−ＩＲ)，ラマン分光 | 石田 英之（東レリサーチセンター） | |
| 電子顕微鏡（TEM） | 柴富 邦夫（日本電子） | |
| 電子線マイクロアナライザ（EPMA） | 平居 暉士 （島津製作所） | |
| ラザフォード後方散乱法（RBS） | 吉岡 芳明 （松下テクノリサーチ） | |
| 討 論 | 福田、石田、柴富、平居、吉岡 | |
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電子分光装置の基礎 | 大岩 烈 （アルバック・ファイ） |
| オージェ電子分光法（AES） | 大村 卓一（松下テクノリサーチ） | |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 深田 昇 （カネカテクノリサーチ） | |
| ＳＩＭＳ（二次イオン質量分析） | 工藤 正博 （成蹊大工） | |
| 走査プローブ顕微鏡（STM/AFM） | 森田 清三 （阪大工 ） | |
| 討 論 | 大岩、大村、深田、工藤、森田 |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ６月７日（水） | 表面・界面分析概論 | 福田安生（静大電子研） |
| 電子線回折(LEED、RHEED） | 一宮彪彦（名大工） | |
| 電子顕微鏡による構造解析 | 板東義雄（無機材研） | |
| 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 奥村豊彦（日本電子） | |
| 電子顕微鏡による微小部分析 | 永田文男（日立計測） | |
| ６月８日（木） | 走査プロ−ブ顕微鏡(SYM,AFM） | 野副尚一（物質研） |
| 赤外分光(FT-IR）、ラマン分光 | 石田英之（東レリサ−チセンタ） | |
| ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ） | 吉岡芳明（松下テクノリサーチ） | |
| 電子分光装置の基礎 | 大岩烈（アルバック・ファイ） | |
| 測定デ−タの取扱い | 太田英二（慶応大理工） | |
| ６月９日（金） | オ−ジェ電子分光法(AES） | 吉原一紘（金材技研） |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 広川吉之助（東北大金研） | |
| 二次イオン質量分析法(D-SIMS） | 本間芳和（Ｎ Ｔ Ｔ） | |
| 二次イオン質量分析法(Ｓ-SIMS） | 工藤正博（成蹊大工） | |
| 総合討論／まとめ | 講師全員 |
| 月 日 |
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表面・界面分析概論 | 福田 安生 （静大電子研） |
| 赤外分光(ＦＴ−ＩＲ)，ラマン分光 | 石田 英之（東レリサーチセンター） | |
| 電子顕微鏡（TEM） | 柴富 邦夫（日本電子） | |
| 走査プローブ顕微鏡（STM/AFM） | 森田 清三 （広大理 ） | |
| 電子線マイクロアナライザ（EPMA） | 平居 暉士 （島津製作所） | |
| 討 論 | 福田、石田、柴富、森田、平居、 | |
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電子分光装置の基礎 | 大岩 烈 （アルバック・ファイ） |
| オージェ電子分光法（AES） | 大村 卓一（松下テクノリサーチ） | |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 深田 昇 （カネカテクノリサーチ） | |
| ラザフォード後方散乱法（RBS） | 吉岡 芳明 （松下テクノリサーチ） | |
| ＳＩＭＳ（二次イオン質量分析） | 工藤 正博 （成蹊大工） | |
| 討 論 | 大岩、大村、深田、吉岡、工藤 |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ６月８日（水） | 表面・界面分析概論 | 福田安生（静大電子研） |
| 電子線回折(LEED、RHEED） | 一宮彪彦（名大工） | |
| 電子顕微鏡による構造解析 | 板東義雄（無機材研） | |
| 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 奥村豊彦（日本電子） | |
| 電子顕微鏡による微小部分析 | 永田文男（日立計測） | |
| ６月９日（木） | 走査プロ−ブ顕微鏡(SYM,AFM） | 野副尚一（物質研） |
| 赤外分光(FT-IR）、ラマン分光 | 石田英之（東レリサ−チセンタ） | |
| ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ） | 吉岡芳明（松下テクノリサーチ） | |
| 電子分光装置の基礎 | 大岩烈（アルバック・ファイ） | |
| 測定デ−タの取扱い | 太田英二（慶応大理工） | |
| ６月１０日（金） | オ−ジェ電子分光法(AES） | 吉原一紘（金材技研） |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 広川吉之助（東北大金研） | |
| 二次イオン質量分析法(D-SIMS） | 本間芳和（Ｎ Ｔ Ｔ） | |
| 二次イオン質量分析法(Ｓ-SIMS） | 工藤正博（成蹊大工） | |
| 総合討論／まとめ | 講師全員 |
| 月 日 |
|
|
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表面・界面分析概論 | 福田 安生 （静大電子研） |
| 赤外分光(ＦＴ−ＩＲ)，ラマン分光 | 石田 英之（東レリサーチセンター） | |
| 電子顕微鏡（TEM） | 遠藤久満（京都工繊大） | |
| 走査プローブ顕微鏡（STMとAFMを中心として） | 八百 隆文 （広大工 ） | |
| 電子線マイクロアナライザ（EPMA） | 奥村 豊彦 （日本電子） | |
| 討 論 | 福田、石田、遠藤、八百、奥村 | |
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電子分光装置の基礎 | 大岩 烈 （アルバック・ファイ） |
| オージェ電子分光法（AES） | 大村 卓一（松下テクノリサーチ） | |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 添田 房美 （東レリサーチセンタ） | |
| ラザフォード後方散乱法（RBS） | 草尾 健司 （松下テクノリサーチ） | |
| 二次イオン質量分析（ＳＩＭＳ） | 工藤 正博 （成蹊大工） | |
| 討 論 | 大岩、大村、添田、草尾、工藤 |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ６月２日（水） | 表面・界面分析概論 | 福田安生（静大電子研） |
| 電子線回折(LEED、RHEED） | 一宮彪彦（名大工） | |
| 電子顕微鏡による構造解析 | 板東義雄（無機材研） | |
| 走査プロ−ブ顕微鏡(SYM,AFM） | 野副尚一（物質研） | |
| ６月３日（木） | 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 奥村豊彦（日本電子） |
| ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ） | 草尾健司（松下テクノリサ−チ） | |
| 赤外分光(FT-IR）、ラマン分光 | 石田英之（東レリサ−チセンタ） | |
| 電子分光装置の基礎 | 大岩烈（アルバック・ファイ） | |
| ６月４日（金） | オ−ジェ電子分光法(AES） | 吉原一紘（金材技研） |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 広川吉之助（東北大金研） | |
| 二次イオン質量分析法(Ｓ-SIMS） | 工藤正博（成蹊大工） | |
| 総合討論／まとめ | 講師全員 |
| 月 日 |
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表面・界面分析の基礎 | 福田 安生 （静大電子研） |
| 赤外分光(ＦＴ−ＩＲ)およびラマン分光 | 石田 英之（東レリサーチセンター） | |
| 電子顕微鏡（TEM，ＳＥＭ） | 遠藤久満（京都工繊大） | |
| STM／AFM | 菅原 康弘（広大理 ） | |
| 電子線マイクロアナライザ（EPMA） | 奥村 豊彦 （日本電子） | |
| 討 論 | 福田、石田、遠藤、菅原、奥村 | |
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電子分光装置の基礎 | 大岩 烈 （アルバック・ファイ） |
| オージェ電子分光法（AES） | 吉原 一紘（金材技研） | |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 薄木 智亮 （住友金属） | |
| ラザフォード後方散乱法（RBS） | 草尾 健司 （松下テクノリサーチ） | |
| 二次イオン質量分析（ＳＩＭＳ） | 工藤 正博 （成蹊大工） | |
| 討 論 | 大岩、吉原、薄木、草尾、工藤 |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ６月２７日（水） | 表面・界面分析概論 | 福田 安生（静大電子研） |
| 電子線回折(LEED、RHEED） | 一宮 彪彦（名大工） | |
| 電子顕微鏡（ＴＥＭ，ＳＥＭ） | 板東 義雄（無機材研） | |
| 走査トンネル顕微鏡(SＴＭ） | 小野 雅敏（電総研） | |
| ６月２８日（木） | 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 奥村 豊彦（日本電子） |
| ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ） | 草尾 健司（松下テクノリサ−チ） | |
| 赤外分光(FT-IR）及びラマン分光 | 石田英之（東レリサ−チセンタ） | |
| 電子分光装置の基礎 | 大岩烈（アルバック・ファイ） | |
| ６月２９日（金） | オ−ジェ電子分光分析法(AES） | 吉原一紘（金材技研） |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 広川吉之助（東北大金研） | |
| 二次イオン質量分析法(SIMS） | 工藤正博（材料科学技術振興財団） | |
| 総合討論／まとめ | 講師全員 |
| 月 日 |
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表面・界面分析の物理 | 福田 安生 （静大電子研） |
| 赤外分光(ＦＴ−ＩＲ)、ラマン分光 | 石田 英之（東レリサーチセンター） | |
| 電子線マイクロアナライザ（EPMA） | 副島 啓義 （島津製作所） | |
| ラザフォード後方散乱法（RBS） | 草尾 健司 （松下テクノリサーチ） | |
| 電子顕微鏡（TEM，ＳＥＭ，ＥＤＸ） | 遠藤久満（京都工繊大） | |
| 討 論 | 福田、石田、副島、草尾、遠藤 | |
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|
表面分析装置の基礎 | 大岩 烈 （アルバック・ファイ） |
| オージェ電子分光法（AES） | 吉原 一紘（金材技研） | |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 奥 正興 （東北大金研） | |
| 二次イオン質量分析（ＳＩＭＳ） | 工藤 正博 （材料財団） | |
| 討 論 | 大岩、吉原、奥、工藤 |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ５月２２日（水） | 表面・界面分析の物理 | 福田 安生（静大電子研） |
| 表面分析装置の基礎 | 大岩烈（アルバック・ファイ） | |
| 電子顕微鏡（ＴＥＭ，ＳＥＭ） | 板東 義雄（無機材研） | |
| 走査トンネル顕微鏡(SＴＭ） | 小野 雅敏（電総研） | |
| ５月２３日（木） | 電子線回折(LEED、RHEED） | 一宮 彪彦（名大工） |
| 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 奥村 豊彦（日本電子） | |
| ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ） | 草尾 健司（松下テクノリサ−チ） | |
| 赤外分光(FT-IR），ラマン分光 | 石田英之（東レリサ−チセンタ） | |
| ５月２４日（金） | オ−ジェ電子分光分析法(AES） | 吉原一紘（金材技研） |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 広川吉之助（東北大金研） | |
| 二次イオン質量分析法(SIMS） | 工藤正博（材料科学技術振興財団） | |
| 演習および質疑応答 | 吉原、広川、工藤 |
| 月 日 |
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|
表面分析で何がどこまで分かるか | 最上 明矩（日本電子） |
| 赤外分光(ＦＴ−ＩＲ)、ラマン分光 | 石田 英之（東レリサーチセンター） | |
| 電子線マイクロアナライザ（EPMA） | 副島 啓義 （島津製作所） | |
| ラザフォード後方散乱（RBS） | 草尾 健司 （松下テクノリサーチ） | |
| 電子顕微鏡（TEM，ＳＥＭ，ＥＤＸ） | 遠藤久満（京都工繊大） | |
| 討 論 | 福田、石田、副島、草尾、遠藤 | |
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電子分光と計測技術 | 大岩 烈 （アルバック・ファイ） |
| オージェ電子分光法（AES） | 吉原 一紘（金材技研） | |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 福田 安生（静大電子研） | |
| 二次イオン質量分析（ＳＩＭＳ） | 工藤 正博 （材料財団） | |
| 討 論 | 大岩、吉原、福田、工藤 |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ５月２３日（水） | 表面分析で何がどこまで分かるか | 大岩 烈（アルバック・ファイ） |
| 表面・界面分析の物理 | 二瓶 好正（東大生研） | |
| 表面構造をどのようにして決めるか | 井野 正三（東大 理） | |
| 最表面の原子構造を観察する（ＳＴＭ） | 小野 雅敏（電総研） | |
| ５月２４日（木） | 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 奥村 豊彦（日本電子） |
| ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ） | 草尾 健司（松下テクノリサ−チ） | |
| 電子顕微鏡（ＴＥＭ，ＳＥＭ） | 板東 義雄（無機材研） | |
| 赤外分光(FT-IR），ラマン分光 | 石田英之（東レリサ−チセンタ） | |
| ５月２５日（金） | オ−ジェ電子分光分析法(AES） | 吉原 一紘（金材技研） |
| Ｘ線光電子分光法（XPS） | 福田 安生（静大電子研） | |
| 二次イオン質量分析法(SIMS） | 工藤正博（材料科学技術振興財団） | |
| 表面・界面分析問題演習 | 吉原、福田、工藤 |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ５月２４日（水） | 表面・界面分析の物理 | 二瓶 好正（東大生研） |
| 表面構造をどのようにして決めるか | 井野 正三（東大 理） | |
| 最表面の原子構造を観察する（ＳＴＭ） | 市ノ川竹男（早大理工） | |
| 界面はどのようになっているのか | 石田 洋一（東大生研） | |
| ５月２５日（木） | 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 浜田 広樹（新日鐵） |
| 固体ＮＭＲ | 林 繁信（化技研） | |
| 電子顕微鏡（ＴＥＭ，ＳＥＭ，ＥＤＸ） | 板東 義雄（無機材研） | |
| 赤外分光(FT-IR），ラマン分光 | 石田英之（東レリサ−チセンタ） | |
| ５月２６日（金） | オ−ジェ電子分光分析法(AES，ＳＡＭ） | 吉原 一紘（金材技研） |
| 光電子分光法（XPS） | 福田 安生（静大電子研） | |
| 二次イオン質量分析法(SIMS） | 工藤正博（材料科学技術振興財団） | |
| 表面分析で何がどこまで分かるか | 最上 明矩（日本電子） | |
| 表面分析のケーススタディ | 吉原、福田、工藤、最上 |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ５月１８日（水） | 表面分析で何がどこまで分かるか | 最上 明矩（日本電子） |
| 表面分析になぜ真空が必要なのか | 山川 洋幸（日本真空技術） | |
| 表面構造をどのようにして決めるか | 井野 正三（東大 理） | |
| 最表面の原子構造を観察する（ＳＴＭ） | 市ノ川竹男（早大理工） | |
| ５月１９日（木） | ＴＥＭによる構造解析用試料の作り方 | 林 繁信（化技研） |
| 電子顕微鏡（ＴＥＭ／ＳＥＭ） | 四本 晴夫（応用技術研） | |
| 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 副島 啓義（島津製作所） | |
| 赤外分光(FT-IR），ラマン分光 | 錦田 晃一（パーキンエルマー・ジャパン） | |
| ５月２０日（金） | オ−ジェ電子分光分析法(AES，ＳＡＭ） | 吉原 一紘（金材技研） |
| 光電子分光法（XPS） | 福田 安生（静大電子研） | |
| 二次イオン質量分析法(SIMS） | 工藤正博（材料科学技術振興財団） | |
| −− | −− |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ５月２０日（水） | 表面分析で何がどこまで分かるか | 最上 明矩（日本電子） |
| 表面分析になぜ真空が必要なのか | 山川 洋幸（日本真空技術） | |
| 表面構造をどのようにして決めるか | 井野 正三（東大 理） | |
| 表面分析 Today & Tomorrow | 市ノ川竹男（早大理工） | |
| ５月２１日（木） | オ−ジェ電子分光分析法(AES，ＳＡＭ） | 吉原 一紘（金材技研） |
| ＸＰＳ，ＵＰＳの基礎と応用 | 福田 安生（日本鋼管） | |
| 二次イオン分析法(SIMS） | 角山 浩三（川崎製鉄） | |
| ５月２２日（金） | 電子線マイクロアナライザ(EPMA） | 副島 啓義（島津製作所） |
| 電子顕微鏡（ＴＥＭ／ＳＥＭ） | 板東 義雄（無機材研） | |
| 赤外分光(FT-IR），ラマン分光 | 錦田 晃一（パーキンエルマー・ジャパン） |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ６月４日（水） | 研究者のためのＥＰＭＡ概説 | 平田 衛（日本電子） |
| オ−ジェ電子分光分析法(AES，ＳＡＭ） | 吉原 一紘（金材技研） | |
| 二次イオン質量分析法の基礎と応用 | 多賀 康訓（豊田中研） | |
| ＸＰＳ．ＵＰＳの基礎と応用 | 福田 安生（日本鋼管） | |
| ６月５日（木） | 赤外分光(FT-IR），ラマン分光 | 伊藤 正時（慶大理工） |
| 低速電子エネルギー損失分光法 | 大島 忠平（無機材研） | |
| 電子顕微鏡（ＴＥＭ／ＳＥＭ） | 板東 義雄（無機材研） | |
| ６月６日（金） | 電子線・Ｘ線回折（ＲＨＥＥＤ，ＸＲＤ） | 井野 正三（東大 理） |
| 電界イオン顕微鏡（アトムプローブ質量分析器と走査型トンネル顕微鏡） | 西川 治（東工大総合理工） | |
| −− | −− |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ６月５日（水） | 総論およびＸ線・電子線回折 | 島岡 五朗（静大電子研） |
| 電子顕微鏡 | 永谷 隆（日立・那珂） | |
| ６月６日（木） | オ−ジェ電子分光分析法(AES，ＳＡＭ） | 吉原 一紘（金材技研） |
| 光電子分光法（XPS） | 福田 安生（日本鋼管） | |
| ６月７日（金） | ＳＩＭＳおよびＬＡＭＭＡ | 黒崎 和夫（藤フィルム研） |
| 赤外分光(FT-IR），ラマン分光 | 石谷 炯（東レ・リサーチ） | |
| 総合討論 | −− |
| 月 日 | 講 義 題 目 | 講 師 |
| ６月６日（水） | 総論およびＸ線・電子線回折 | 島岡 五朗（静大電子研） |
| 電子顕微鏡（ＴＥＭ，ＳＴＥＭ，ＥＥＬＳ） | 飯島 澄雄（新技術開発事業団） | |
| ６月７日（木） | オ−ジェ電子分光分析法(AES，ＳＡＭ） | 大高 好久・田上 満（三菱化成技研） |
| 光電子分光（XPS，ＵＰＳ） | 福田 安生（日本鋼管技研） | |
| ６月８日（金） | ＳＩＭＳおよびＬＡＭＭＡ | 黒崎 和夫（藤フィルム研） |
| ＲＢＳおよびＰＩＸＥ | 坂入 秀雄（理研） | |
| 総合討論 | −− |
| −− | 講 義 題 目 | 講 師 |
| １ 表面分析のための試料調製法 | (1) 半導体・金属・セラミックス | 成沢 忠（光芝研） |
| (2) ポリマー・有機物 | 黒崎 和夫（藤フィルム研） | |
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２ ＳＩＭＳの使い方 |
(1) Dynamic ＳＩＭＳ | 田村 一二三（日立中研） |
| (2) Static ＳＩＭＳ | 黒崎 和夫（藤フィルム研） | |
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ＡＥＳの使い方 | 林 義孝・塩川 善郎（ＡＮＥＬＶＡ） |
| 光学顕微鏡による固体表面の各種検査法 | 松原 正樹（オリンパス） | |
| ＩＳＳ | 豊嶋 勇（北大触媒研） | |
| LASER Raman Microprobe | 石谷 炯・石田 英之（東レリサーチ） | |
| 低速電子エネルギー損失分析法 | 小間 篤（筑波大物工） | |
| ＳＥＲＳ | 末高 洽（東北大工） |
| −− | 講 義 題 目 | 講 師 |
| − − | 表面分析総論 | 安盛 岩雄（東工大理） |
| 低速電子線回折 | 安盛 岩雄（東工大理） | |
| オ−ジェ電子分光分析法(AES） | 井口 裕夫（筑波大物工） | |
| ＸＰＳ，ＵＰＳ | 二瓶 好正（東大生研） | |
| Field Emission Microscopy,Field Ion Microscopy and Atom-Probe Mass Spectroscopy | 西川 治（東工大総合理工） | |
| 高速イオンを用いる新しい表・界面分析法−Rutherford Backscattering Spectroscopyなど− | 平木 昭夫（阪大工） | |
| 二次イオン質量分析法(SIMS） | 田村 一二三（日立中研） |