日本表面科学会 第57回表面科学研究会
日本真空協会 2008年2月研究例会
テーマ： 原子・分子クラスタビームの新展開−現状と展望−
クラスタイオンビーム技術が開発されて久しくなりますが、近年その技術がさらに発展して、クラスタビムビームの反応性、超平坦加工、表面処理、極薄層ドーピングなど成膜・プロセシング・分析に利用されるようになってきました。本研究会では、クラスタビームの研究開発および応用の最前線でご活躍の先生方に現状と展望をわかりやすくお話しいただきます。関連分野および興味をお持ちの研究者・技術者多数のご参加をお待ちしております。
日時 2008年2月15日（金）
13：00〜16：30（受付 12：30〜）
場所 機械振興会館 地下3階 B3-2号室
（東京都港区芝公園3-5-8）
−講演プログラム−
開会の挨拶 （日本表面科学会企画委員長）中村友二 13：00〜13：05
1.クラスタビームと物質表面の相互作用：電子的相互作用について
中川幸子（岡山理科大学理学部） 13：05〜13：40
【概要】
クラスターイオンと固体表面の相互作用シミュレーションも、原子間の弾性衝突を追尾するに
ついては、ほぼ完成域に達していると思われます。但し、電子的な過程が無視出来ればと言う
大前提の下に。講演では、電子的過程の重要性について考察します。
2.ガスクラスターイオンビーム技術の最近の親展
松尾二郎（京都大学工学研究科） 13：40〜14：25
【概要】
新しいイオンビームとして、クラスターイオンビームが注目を集めている。数百以上の大きな
クラスターサイズを発生することのできるガスクラスターイオンビーム技術は、ナノプロセッ
シングや表面分析の分野で高いポテンシャルを有している。本技術の最新の成果と併せて、
国際的な研究動向を紹介する。
3.金属クラスタ錯体イオンビームの発生とその応用
藤原幸雄（産業技術総合研究所） 14：25〜15：00
【概要】
「金属クラスター錯体」という巨大分子を用いたクラスター・イオンビーム源を開発し、
極浅不純物注入シリコン基板や有機薄膜の二次イオン質量分析（SIMS）に応用し、その有用性を
実証したので報告する。
−休 憩−
4.C60イオンビームによる表面分析
野副尚一（アルバック・ファイ株式会社） 15：15〜15：50
5.帯電水滴衝撃イオン化法の基礎と応用
平岡賢三（山梨大学クリーンエネルギー研究センター） 15：50〜16：25
【概要】
大気圧エレクトロスプレーで生成した帯電水滴を真空に導き、10kVで加速して、金属基板上の
試料に衝突させた。バイオ試料、合成高分子、半導体などが、原子／分子レベルでエッチング
され、表面下層試料の破壊はほとんど見られないことが分かった。これは、水分子の水素原子
が、表面と断熱的に衝突相互作用すること、および水滴の水素結合が衝撃エネルギーを効率
よく衝撃波として散逸させること、に起因する。
閉会の挨拶 （日本真空協会研究部会長） 荒川一郎 16：25〜16：30
参加費：（当日会場にて御支払いください．）
日本表面科学会会員、日本真空協会会員 1,500円
非会員 2,500円
学生 無料
予稿集：1,000円
申込方法 ホームページからのお申し込みはここをクリック＊申込フォームへ＊
当日会場での申込も受付ます。
問合せ先：
日本表面科学会 TEL：03-3812-0266、FAX：03-3812-2897、e-mail：shomu＠sssj.org
URL.：http://www.sssj.org/kenkyukai/kenkyu_57.html
日本真空協会 TEL：03-3431-4395、 FAX：03-3433-5371、 e-mail：ofc-vsj＠vacuum-jp.org
URL：http://wwwsoc.nii.ac.jp/vsj/
交通・最寄り駅
・ 営団地下鉄 日比谷線 神谷町駅下車 徒歩8分
・ 都営地下鉄 三田線 御成門駅下車 徒歩8分
・ 都営地下鉄 大江戸線 赤羽橋駅下車 徒歩10分
・ 都営地下鉄 浅草線・大江戸線 大門駅下車 徒歩10分
・ JR 浜松町駅下車 徒歩15分
地図
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